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ワイドレンジ光学&電気測定用温度可変システム

PPHL-800

ワイドレンジ光学&電気測定用温度可変システム

お手軽・簡単に80K〜750Kの温度環境をご提供致します。

冷却手法には液体窒素を用いているため温度振れや振動が格段に低減できます。

特長

  • サンプル部に4端子電極を装備することにより、電気測定も簡単に測定可能。
  • 可変ニードル採用により、寒材の消費量を調整できます。
  • オプションにて、移動機構Z昇降機能、X,Y移動機構をご用意しております。

主な仕様

到達温度 80K以下 (約60分)
温度使用範囲 80K〜800K
冷却容量 LN2容器 : 400cc
消費量 : 100cc/1h(参考値)
センサー K-熱電対 x2本
温度安定性 ±0.2K(到達温度〜300K)
±1K(300K〜800K)

冷却・昇温特性

冷却特性
昇温冷却特性

サンプル部例-有効開口40Φ-2面

サンプル部例-有効開口40-2面

オプション

サンプル移動機構

サンプル移動ステージ
  • X,Y,Z軸

電気測定用

電気測定用
  • 4端子ヘッド

新製品情報

2015年7月
【その他各種取扱製品】
テラヘルツ発生・検出器 (光伝導アンテナ)
2013年10月
【真空部品】
アジレント社製 新型スクロールポンプ IDP-15
2013年7月
【真空部品】
アジレント社製 新型TMP TwisTorr 304 FS
2010年9月
【表面分析装置】
飛行時間型原子散乱表面分析装置 TOFLAS-3000
2010年3月
【極低温冷凍機システム】
アクセスドア仕様 光学&電気測定用冷凍機システム 〔小型 4K GM CRYO COOLER〕
その他の新製品情報 >>

イベント情報

2018年10月31日〜11月2日
【併設展示】
第47回結晶成長国内会議(JCCG-47)(於:仙台市戦災復興記念館)
その他のイベント情報 >>

トピックス

2013年10月31日
文部科学省による「革新的イノベーション創出プログラム(COI STREAM)」拠点に東京大学等と共に採択されました。
2013年9月27日
原子散乱表面分析装置 に、関連技術情報3件を掲載しました。
2012年11月1日
茨城事業所(茨城県那珂市)を開設しました。
2011年4月15日
原子散乱表面分析装置 が、りそな中小企業振興財団・日刊工業新聞共催第23回「中小企業優秀新技術・新製品賞」一般部門“優良賞”を受賞しました。
その他のトピックス >>
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