昭和61年 7月
(1986年) |
株式会社パスカル設立。 |
電流導入端子(日立原町電子工業株式会社)の販売代理店となる。 |
電子冷凍素子(米国マーロゥ社)の販売を開始。 |
真空関連機器 ・ 装置 ・ 部品の製造及び販売を開始。 |
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昭和64年 4月
(1989年) |
超精密加工(超微細穴加工、超精密研磨加工)の受注販売を開始。 |
セラミック関連製品の販売を開始。 |
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平成 2年11月
(1990年) |
バリアンジャパンリミテッド(現アジレント・テクノロジー社)の真空機器部門代理店となる。 |
ターボポンプ ・ イオンポンプをはじめ 超高真空コンポーネントの拡販を開始。 |
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平成 4年10月
(1992年) |
マイクロ波イオン源 ・ プラズマCVD ・ スパッタ装置等 真空システムの開発 及び 販売を開始。 |
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平成 5年 2月
(1993年) |
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平成 5年 8月
(1993年) |
レーザーアブレーション装置 ・ MBE装置 ・ ECR/CVD装置等 超高真空装置の開発 及び 販売を開始。 |
ランプ加熱方式基板加熱装置の販売を開始。 |
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平成 6年 1月
(1994年) |
米国レボー社の販売代理店となり、薄膜フォイル,窓の販売拡販を開始。 |
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平成 6年 4月
(1994年) |
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平成 6年10月
(1994年) |
放射線計測器(米国IST社)の受注販売活動を開始。 |
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平成 7年 4月
(1995年) |
コンパクトレーザーMBE装置の開発 及び 販売を開始。 |
東京営業所を業務拡大の為 移転 (埼玉県志木市)、関東 及び 東北地方の営業拠点として拡販を進める。 |
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平成 7年 7月
(1995年) |
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平成 8年 4月
(1996年) |
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平成 9年 3月
(1997年) |
低圧スパッタ源 ・ 低圧多元スパッタリング装置の開発 及び 販売を開始。 |
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平成10年 3月
(1998年) |
スーパーコンビPLD装置の開発 及び 販売を開始。 |
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平成11年 7月
(1999年) |
科学技術振興事業団(現(独)科学技術振興機構)の平成11年度独創的研究成果育成事業に課題名 『 高性能基板加熱装置 』 が採択される。 |
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平成11年 9月
(1999年) |
VPAスタンダードPLD装置の開発 及び 販売を開始。 |
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平成12年 7月
(2000年) |
科学技術振興事業団(現(独)科学技術振興機構)の平成12年度独創的研究成果育成事業に課題名 『 超高分解能水素検出顕微鏡 』 が採択される。 |
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平成12年 9月
(2000年) |
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平成13年 3月
(2001年) |
RHEED平行スキャンタイプの開発 及び 販売を開始。 |
汎用コンビPLD装置の開発 及び 販売を開始。 |
モバイルコンビPLD装置の開発 及び 販売を開始。 |
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平成13年10月
(2001年) |
関東営業所(東京営業所)を業務拡大の為 移転 (埼玉県新座市) |
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平成14年10月
(2002年) |
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平成15年 7月
(2003年) |
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平成16年 7月
(2004年) |
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平成20年 2月
(2008年) |
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平成20年 2月
(2008年) |
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平成20年 7月
(2008年) |
(独)科学技術振興機構の平成20年度独創的シーズ展開事業 独創モデル化に課題名 『 0.1Å以下の空間分解能をもつ絶縁体表面原子構造解析装置の開発 』 が採択される。 |
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平成22年 9月
(2010年) |
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平成23年 4月
(2011年) |
原子散乱表面分析装置 TOFLAS-3000 が、りそな中小企業振興財団・日刊工業新聞共催第23回「中小企業優秀新技術・新製品賞」一般部門“優良賞”を受賞。 |
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平成24年11月
(2012年) |
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平成25年11月
(2013年) |
文部科学省の革新的イノベーション創出プログラム(COI STREAM)拠点に 『 若者と共存共栄する持続可能な健康長寿社会を目指す 〜 Sustainable Life Care, Ageless Socirty COI拠点 〜 』 が東京大学等と共に採択される。 |
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平成30年12月
(2018年) |
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令和3年5月
(2021年) |
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