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[半導体] 設備メンテナンス
スラリークリーンやスラリーチューブ洗浄剤などの洗浄剤、および新開発フッ素樹脂コーティング技術であるADコートなど、半導体設備のメンテナンスに関しても対応しています。
スラリークリーンはCMP装置周辺に飛散 ･ 固着したスラリーによる超微粒子皮膜を簡単に除去します。
※ 材料の一部が入手できなくなったため2021年12月末日をもちまして販売中止となりました。
YS-200は、CMPスラリーのチューブ内の堆積物を分散剤とビーズの作用で効率良く除去します。
YS-200は、酸やアルカリによる従来の薬液洗浄に比べて、短時間で洗浄を完了します。
※ 材料の一部が入手できなくなったため2021年12月末日をもちまして販売中止となりました。
半導体製造業プロセスに新しい世界を拓く！！
新開発フッ素樹脂コーティング技術 ADコートは、一般的なフッ素樹脂コートの特性に加えてさらに優れた特長を有し、種々の形状や素材にコーティングできます。
新製品情報
- 2021年3月
- 【真空搬送システム】
クラスターシステム - 2020年2月
- 【真空部品】
アジレント社製 新型TMP TwisTorr 305 FS - 2017年3月
- 【真空薄膜形成装置】
レーザーアシスト基板加熱機構
イベント情報
- 2022年9月20日〜23日
- 【併設展示】
応用物理学会秋季学術講演会（於：東北大学 川内キャンパス）
トピックス
- 2021年5月1日
- 関東営業所（埼玉県新座市）を移転しました。
- 2018年12月17日
- 茨城事業所（茨城県那珂市）を移転しました。
- 2013年10月31日
- 文部科学省による「革新的イノベーション創出プログラム（COI STREAM）」拠点に東京大学等と共に採択されました。
- 2011年4月15日
- 原子散乱表面分析装置 が、りそな中小企業振興財団・日刊工業新聞共催第23回「中小企業優秀新技術・新製品賞」一般部門“優良賞”を受賞しました。