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[半導体] 設備メンテナンス

スラリークリーンやスラリーチューブ洗浄剤などの洗浄剤、および新開発フッ素樹脂コーティング技術であるADコートなど、半導体設備のメンテナンスに関しても対応しています。

[半導体] 設備メンテナンス ラインナップ

CMP用洗浄剤 スラリークリーン

スラリークリーンはCMP装置周辺に飛散 ・ 固着したスラリーによる超微粒子皮膜を簡単に除去します。

CMPスラリーチューブ洗浄剤

YS-200は、CMPスラリーのチューブ内の堆積物を分散剤とビーズの作用で効率良く除去します。

YS-200は、酸やアルカリによる従来の薬液洗浄に比べて、短時間で洗浄を完了します。

フッ素樹脂コーティング技術

半導体製造業プロセスに新しい世界を拓く!!

新開発フッ素樹脂コーティング技術 ADコートは、一般的なフッ素樹脂コートの特性に加えてさらに優れた特長を有し、種々の形状や素材にコーティングできます。

新製品情報

2015年7月
【その他各種取扱製品】
テラヘルツ発生・検出器 (光伝導アンテナ)
2013年10月
【真空部品】
アジレント社製 新型スクロールポンプ IDP-15
2013年7月
【真空部品】
アジレント社製 新型TMP TwisTorr 304 FS
2010年9月
【表面分析装置】
飛行時間型原子散乱表面分析装置 TOFLAS-3000
2010年3月
【極低温冷凍機システム】
アクセスドア仕様 光学&電気測定用冷凍機システム 〔小型 4K GM CRYO COOLER〕
その他の新製品情報 >>

イベント情報

2018年10月31日〜11月2日
【併設展示】
第47回結晶成長国内会議(JCCG-47)(於:仙台市戦災復興記念館)
その他のイベント情報 >>

トピックス

2013年10月31日
文部科学省による「革新的イノベーション創出プログラム(COI STREAM)」拠点に東京大学等と共に採択されました。
2013年9月27日
原子散乱表面分析装置 に、関連技術情報3件を掲載しました。
2012年11月1日
茨城事業所(茨城県那珂市)を開設しました。
2011年4月15日
原子散乱表面分析装置 が、りそな中小企業振興財団・日刊工業新聞共催第23回「中小企業優秀新技術・新製品賞」一般部門“優良賞”を受賞しました。
その他のトピックス >>
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