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製品紹介
真空薄膜形成装置 / 成膜装置
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[半導体] 設備メンテナンス
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CMPスラリーチューブ洗浄剤
フッ素樹脂コーティング技術
[半導体] IC補修ツール
プリント配線板回路修正専用工具
超精密加工・研磨
関連技術情報
PLDの概要とパスカル製PLDの特長
各種基板
化合物単結晶基板,シリコン単結晶基板,酸化物単結晶基板などの結晶基板、および金属基板,セラミックス基板,エピ基板等各種基板を扱っています。
基板の種類
ダウンロード
結晶基板
化合物単結晶基板
VGF ガリウム砒素ウエハー
GaAs
VGF インジウム燐ウエハー
InP
族ウエハー
化合物単結晶基板
酸化物単結晶基板
チタン酸ストロンチウム
SrTi
3
酸化マグネシウム
MgO
酸化アルミニウム
Al
2
O
3
アルミン酸ランタン
LaALO
3
酸化アルミニウム
YSZ
酸化アルミニウム
TiO
2
金属基板
セラミックス基板
エピ基板
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新製品情報
2021年3月
【真空搬送システム】
クラスターシステム
2020年2月
【真空部品】
アジレント社製 新型TMP TwisTorr 305 FS
2017年3月
【真空薄膜形成装置】
レーザーアシスト基板加熱機構
その他の新製品情報 >>
イベント情報
2022年9月20日〜23日
【併設展示】
応用物理学会秋季学術講演会
(於:東北大学 川内キャンパス)
その他のイベント情報 >>
トピックス
2021年5月1日
関東営業所
(埼玉県新座市)を移転しました。
2018年12月17日
茨城事業所
(茨城県那珂市)を移転しました。
2013年10月31日
文部科学省による「革新的イノベーション創出プログラム(COI STREAM)」拠点に東京大学等と共に採択されました。
2011年4月15日
原子散乱表面分析装置
が、りそな中小企業振興財団・日刊工業新聞共催第23回「中小企業優秀新技術・新製品賞」一般部門
“優良賞”
を受賞しました。
その他のトピックス >>