優れた浸透力・分散力

• チューブ内壁のスラリー堆積物にスムーズに浸透し、堆積物を内部から破壊・剥離させます。

ビーズによる強力な物理洗浄力

• チューブ内壁に強固に付着した堆積物をビーズがアタックこれを破壊します。
• ビーズはチューブ素材を傷めない軽くて軟らかい樹脂で作られており、すすぎ洗浄で簡単に流脱します。

クリーンで環境に優しい YS-200

• 半導体の性質に影響を及ばすアルカリ金属を排除した、クリーンな洗浄剤です。
• 分散剤は高い生分解性を有しており、生物処理や凝集処理によつて容易に分解・除去されます。
• 酸やアルカリを使つてないので作業者や装置に対して安全な中性洗浄剤です。

洗浄時間、すすぎ時間はCMP装置条件によって異なります。

• 洗浄・すすぎ時間の大巾な短縮により、結果としてCMPマシンのダウンタイムを短縮します。
• 従来使つていた酸やアルカリに比べて洗浄精度、作業環境が改善され、排水への負荷も減少します。

洗浄条件（YS-200 をチューブ内へ通液して循環洗浄した事例）

洗浄結果（従来方法との比較例）