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CMPスラリーチューブ洗浄剤

YS-200

CMPスラリーチューブ洗浄剤

YS-200は、CMPスラリーのチューブ内の堆積物を分散剤とビーズの作用で効率良く除去します。

YS-200は、酸やアルカリによる従来の薬液洗浄に比べて、短時間で洗浄を完了します。

特長

優れた浸透力・分散力

  • チューブ内壁のスラリー堆積物にスムーズに浸透し、堆積物を内部から破壊・剥離させます。

ビーズによる強力な物理洗浄力

  • チューブ内壁に強固に付着した堆積物をビーズがアタックこれを破壊します。
  • ビーズはチューブ素材を傷めない軽くて軟らかい樹脂で作られており、すすぎ洗浄で簡単に流脱します。

物性

クリーンで環境に優しい YS-200

  • 半導体の性質に影響を及ばすアルカリ金属を排除した、クリーンな洗浄剤です。
  • 分散剤は高い生分解性を有しており、生物処理や凝集処理によつて容易に分解・除去されます。
  • 酸やアルカリを使つてないので作業者や装置に対して安全な中性洗浄剤です。
外観 白色液体
比重 1.05
PH 7.0
COD 1000PPM(1%液)
成分 純水 / 分散剤 / 樹脂ビーズ

使用方法

洗浄時間、すすぎ時間はCMP装置条件によって異なります。

ワンウェイ洗浄
循環洗浄
スラリー供給装置を含めた循環洗浄

洗浄効果

  • 洗浄・すすぎ時間の大巾な短縮により、結果としてCMPマシンのダウンタイムを短縮します。
  • 従来使つていた酸やアルカリに比べて洗浄精度、作業環境が改善され、排水への負荷も減少します。

洗浄事例

洗浄条件(YS-200 をチューブ内へ通液して循環洗浄した事例)

マシン A 社
給油チューブ PFA製
ウエハー 8"
ポンプ チューブポンプ
研磨対象 メタル(Cu)
流量 200ml/min
スラリー シリカ系
形状 2ヶ月以上連続して内壁不透明

洗浄結果(従来方法との比較例)

従来方法 YS-200洗浄
洗浄液 KOH希釈水 YS-200
洗浄方法 ワンウェイ 循環
洗浄時間 4.0Hr 0.5Hr
すすぎ時間 4.0Hr 1.0Hr
洗浄頻度 1ヶ月毎 2ヶ月毎
洗浄結果 チューブ内にスラリ擬固物残る チューブ内に汚れ認められず

新製品情報

2020年2月
【真空部品】
アジレント社製 新型TMP TwisTorr 305 FS
2017年3月
【真空薄膜形成装置】
レーザーアシスト基板加熱機構
2010年9月
【表面分析装置】
飛行時間型原子散乱表面分析装置 TOFLAS-3000
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イベント情報

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トピックス

2021年5月1日
関東営業所(埼玉県新座市)を移転しました。
2018年12月17日
茨城事業所(茨城県那珂市)を移転しました。
2013年10月31日
文部科学省による「革新的イノベーション創出プログラム(COI STREAM)」拠点に東京大学等と共に採択されました。
2011年4月15日
原子散乱表面分析装置 が、りそな中小企業振興財団・日刊工業新聞共催第23回「中小企業優秀新技術・新製品賞」一般部門“優良賞”を受賞しました。
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