真空薄膜形成装置 / 成膜装置

株式会社パスカルでは、1995年より、レーザーMBE法を志向したPLD / レーザーMBE装置の開発を行っています。

• コンパクトレーザーMBE装置
• モバイルコンビレーザーMBE装置
• スタンダードレーザーMBE装置
• 有機デバイス用赤外線レーザー蒸着装置

真空チャンバー内の原料ターゲットに電界で加速させたイオンを衝突させて表面原子（分子）を弾き飛ばすスパッタリング現象（Sputtering）を用いた薄膜形成装置です。

• 低圧多元スパッタリング装置
• コンビナトリアル多層膜スパッタ装置

真空中で電子銃から発生する電子ビームをターゲット材料に照射し、加熱・蒸発させ、基板等に薄膜形成する電子ビーム蒸着装置です。

RHEEDユニットをはじめ、基板加熱ユニットやターゲット自公転ユニット，スパッタガンなど各種真空装置アクセサリーを紹介！

• RHEEDユニット
• ターゲット自公転ユニット
• 赤外線ランプ基板加熱ユニット
• 半導体レーザー基板加熱ユニット
• コンビナトリアルマスクユニット
• ロードロック室ユニット
• PLD自動制御システム
• 高純度オゾン発生装置
• 活性原子 / ラジカルビーム源
• 分子線セル（クヌーセンセル）
• マグネトロンスパッタガン
• 電子銃（EBガン）・各種イオン源

真空装置での成膜に必要な基板やターゲット材料などに関しても扱っています。

• 各種基板
• ターゲット材料
• 高純度・高融点マテリアル

• MBE用Kセル、Moホルダー
• 各種単結晶機基板研磨・加工
• MOCVD、MBE装置治具精密洗浄
• 半導体レーザーチップ 及び 赤外LED