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コンビナトリアル多層膜スパッタ装置

COMBSP

コンビナトリアル多層膜スパッタ装置

本装置は、コンビナトリアル成膜技術を導入して一括合成した薄膜,及びマスクをかえしてパターンを施した薄膜を製作可能な超高真空スパッタリング装置です。

特長

  • 最大8個のスパッタガンの装着が可能です。
  • 10-7Pa台の超高真空に到達できます。
  • コンビナトリアルコントロール可能です。
  • マスクを20枚以上装着可能で真空中にて交換できます。
  • 基板加熱機構でレーザー加熱を装着可能です。(オプション)
  • 多数のオプション機構を有します。(ラジカル源、L/L室、中間室 etc.)

新製品情報

2021年3月
【真空搬送システム】
クラスターシステム
2020年2月
【真空部品】
アジレント社製 新型TMP TwisTorr 305 FS
2017年3月
【真空薄膜形成装置】
レーザーアシスト基板加熱機構
その他の新製品情報 >>

イベント情報

2022年3月22日〜26日
【併設展示】
応用物理学会春季学術講演会(於:青山学院大学 相模原キャンパス)
その他のイベント情報 >>

トピックス

2021年5月1日
関東営業所(埼玉県新座市)を移転しました。
2018年12月17日
茨城事業所(茨城県那珂市)を移転しました。
2013年10月31日
文部科学省による「革新的イノベーション創出プログラム(COI STREAM)」拠点に東京大学等と共に採択されました。
2011年4月15日
原子散乱表面分析装置 が、りそな中小企業振興財団・日刊工業新聞共催第23回「中小企業優秀新技術・新製品賞」一般部門“優良賞”を受賞しました。
その他のトピックス >>
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