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スパッタ装置

真空チャンバー内の原料ターゲットに電界で加速させたイオンを衝突させて表面原子(分子)を弾き飛ばすスパッタリング現象(Sputtering)を用いた薄膜形成装置です。

高融点材料や合金など、真空蒸着が困難な蒸着材料でも薄膜を作製することができるため、広範囲の材料に対して適用が可能であり、さらに半導体,液晶,磁気ディスクなどの高品質薄膜の作製も可能です。

スパッタ装置 ラインナップ

低圧多元スパッタリング装置

本装置は、新しいデバイス,半導体の研究に開発された数々の特長を持つ、多層膜スパッタリング装置です。

コンビナトリアル多層膜スパッタ装置

本装置は、コンビナトリアル成膜技術を導入して一括合成した薄膜,及びマスクをかえしてパターンを施した薄膜を製作可能な超高真空スパッタリング装置です。

新製品情報

2015年7月
【その他各種取扱製品】
テラヘルツ発生・検出器 (光伝導アンテナ)
2013年10月
【真空部品】
アジレント社製 新型スクロールポンプ IDP-15
2013年7月
【真空部品】
アジレント社製 新型TMP TwisTorr 304 FS
2010年9月
【表面分析装置】
飛行時間型原子散乱表面分析装置 TOFLAS-3000
2010年3月
【極低温冷凍機システム】
アクセスドア仕様 光学&電気測定用冷凍機システム 〔小型 4K GM CRYO COOLER〕
その他の新製品情報 >>

イベント情報

2017年9月5日〜8日
【併設展示】
第78回応用物理学会秋季学術講演会(於:福岡国際センター)

トピックス

2013年10月31日
文部科学省による「革新的イノベーション創出プログラム(COI STREAM)」拠点に東京大学等と共に採択されました。
2013年9月27日
原子散乱表面分析装置 に、関連技術情報3件を掲載しました。
2012年11月1日
茨城事業所(茨城県那珂市)を開設しました。
2011年4月15日
原子散乱表面分析装置 が、りそな中小企業振興財団・日刊工業新聞共催第23回「中小企業優秀新技術・新製品賞」一般部門“優良賞”を受賞しました。
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