ここからサイトの主なメニューです

モバイルコンビレーザーMBE装置

MC-LMBE

モバイルコンビレーザーMBE装置

コンビができる、小さい、高機能、完全PC制御

本装置は超高真空環境において、石英窓を介して導入されたパルスレーザーの光をターゲットに照射して、対向する基板上に薄膜を堆積させるレーザーMBE装置です。 さらに、スキャニングRHEEDと2つのコンビナトリアルマスクを用いて、成長を原子レベルで制御しながら、一枚の基板上に異なる条件の試料を一括作製することが可能です。

コンビナトリアル成膜の概念は、一枚の基板上をマスキングによって複数の堆積領域に区画し、種々の成膜パラメータを系統的に変化させた薄膜を作製することにより、条件探索を短時間で行なうものです。 また、ロードロック室ユニットを標準装備しており、ターゲットや基板の交換を簡単に行なうことができます。

特長

  • 操作性の高いコンパクトな超高真空システム
  • 到達真空度　6.7×10-7Pa以下（5×10-9Torr）
  • モーター駆動コンビナトリアルマスク2枚を装着
  • 1200℃まで加熱可能な半導体レーザー基板加熱ユニット
  • 6種類のターゲットが使用可
  • スキャニングRHEEDを標準装備
  • ロードロック室ユニットにより、真空中でターゲットや基板を簡単交換
  • 完全コンピュータ制御
モバイルコンビレーザーMBE装置

主な仕様

成膜室および真空排気系
チャンバー形状 : φ260mm 球形
到達真空度 : 6.7×10-7Pa以下（5×10-9Torr）
セラミックベアリングターボポンプ　250L/s
ターゲット自公転ユニット
φ20mm×6軸
自転・公転モーター駆動（PC制御）
基板加熱ユニット
半導体レーザー基板加熱ユニット
基板サイズ : □10mm
基板加熱温度 : 1,200℃以上
コンビナトリアルマスクユニット モーター駆動マスク　2枚
RHEEDユニット
スキャニングRHEED
RHEED画像処理システム
ロードロック室ユニット
チャンバー形状 : φ114mm×250mmH 円柱形
傾斜機構付きトランスファーロッド
収納数 : 基板ホルダー2個，ターゲットホルダー4個
共通仕様
電源・コントロールラック（JIS規格準拠）一体型チャンバーフレーム
PLD自動制御システム（PCおよび制御ソフトウェア）

主なオプション

お問い合わせ

新製品情報

2021年3月
【真空搬送システム】
クラスターシステム
2020年2月
【真空部品】
アジレント社製 新型TMP TwisTorr 305 FS
2017年3月
【真空薄膜形成装置】
レーザーアシスト基板加熱機構
その他の新製品情報 >>

イベント情報

2022年9月20日〜23日
【併設展示】
応用物理学会秋季学術講演会（於：東北大学 川内キャンパス）
その他のイベント情報 >>

トピックス

2021年5月1日
関東営業所（埼玉県新座市）を移転しました。
2018年12月17日
茨城事業所（茨城県那珂市）を移転しました。
2013年10月31日
文部科学省による「革新的イノベーション創出プログラム（COI STREAM）」拠点に東京大学等と共に採択されました。
2011年4月15日
原子散乱表面分析装置 が、りそな中小企業振興財団・日刊工業新聞共催第23回「中小企業優秀新技術・新製品賞」一般部門“優良賞”を受賞しました。
その他のトピックス >>
  • ページの先頭に戻る