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真空薄膜形成装置 / 成膜装置
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関連技術情報
電子ビーム蒸着装置
真空中で電子銃から発生する電子ビームをターゲット材料に照射し、加熱・蒸発させ、基板等に薄膜形成する電子ビーム蒸着装置です。
電子ビーム蒸着装置
本装置は、超高真空環境においてEBガンに印加することで金属や酸化物などの薄膜および混合薄膜（同時蒸着）を作成することができる真空蒸着装置です。
さらに抵抗加熱蒸着にも変更できるような構造を有しております。（同時不可）
エバポレーター蒸着装置
本装置は、金属や半導体のロッド状材料を電子ビーム加熱することで、単原子層やエピタキシャル薄膜などを作成することができるエバポレーターを用いた真空蒸着装置です。
フィードバック回路により設定値に対し±3％以内といった高いフラックス安定性を備えており、数十nA〜数μAオーダーのフラックスを長時間保つことができます。
新製品情報
- 2021年3月
- 【真空搬送システム】
クラスターシステム - 2020年2月
- 【真空部品】
アジレント社製 新型TMP TwisTorr 305 FS - 2017年3月
- 【真空薄膜形成装置】
レーザーアシスト基板加熱機構
イベント情報
- 2022年9月20日〜23日
- 【併設展示】
応用物理学会秋季学術講演会（於：東北大学 川内キャンパス）
トピックス
- 2021年5月1日
- 関東営業所（埼玉県新座市）を移転しました。
- 2018年12月17日
- 茨城事業所（茨城県那珂市）を移転しました。
- 2013年10月31日
- 文部科学省による「革新的イノベーション創出プログラム（COI STREAM）」拠点に東京大学等と共に採択されました。
- 2011年4月15日
- 原子散乱表面分析装置 が、りそな中小企業振興財団・日刊工業新聞共催第23回「中小企業優秀新技術・新製品賞」一般部門“優良賞”を受賞しました。