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基板・ターゲット材料等

真空装置での成膜に必要な基板やターゲット材料などに関しても扱っています。

基板・ターゲット材料等 ラインナップ

各種基板

化合物単結晶基板,シリコン単結晶基板,酸化物単結晶基板などの結晶基板、および金属基板,セラミックス基板,エピ基板等各種基板を扱っています。

ターゲット材料

酸化物,窒化物,炭化物などの化合物ターゲットや金属ターゲット、さらにタブレットやパウダーなど各種薄膜原料を扱っています。

高純度・高融点マテリアル

6〜7Nの高純度金属や高純度化合物,高融点金属などを扱っています。

新製品情報

2020年2月
【真空部品】
アジレント社製 新型TMP TwisTorr 305 FS
2017年3月
【真空薄膜形成装置】
レーザーアシスト基板加熱機構
2010年9月
【表面分析装置】
飛行時間型原子散乱表面分析装置 TOFLAS-3000
その他の新製品情報 >>

イベント情報

その他のイベント情報 >>

トピックス

2021年5月1日
関東営業所(埼玉県新座市)を移転しました。
2018年12月17日
茨城事業所(茨城県那珂市)を移転しました。
2013年10月31日
文部科学省による「革新的イノベーション創出プログラム(COI STREAM)」拠点に東京大学等と共に採択されました。
2011年4月15日
原子散乱表面分析装置 が、りそな中小企業振興財団・日刊工業新聞共催第23回「中小企業優秀新技術・新製品賞」一般部門“優良賞”を受賞しました。
その他のトピックス >>
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