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製品紹介
真空薄膜形成装置 / 成膜装置
PLD / レーザーMBE装置
コンパクトレーザーMBE装置
モバイルコンビレーザーMBE装置
スタンダードレーザーMBE装置
有機デバイス用赤外線レーザー蒸着装置
スパッタ装置
低圧多元スパッタリング装置
コンビナトリアル多層膜スパッタ装置
電子ビーム蒸着装置
オプションユニット
RHEEDユニット
ターゲット自公転ユニット
赤外線ランプ基板加熱ユニット
半導体レーザー基板加熱ユニット
レーザーアシスト基板加熱機構
コンビナトリアルマスクユニット
ロードロック室ユニット
PLD自動制御システム
高純度オゾン発生装置
活性原子 / ラジカルビーム源
分子線セル(クヌーセンセル)
マグネトロンスパッタガン
電子銃(EBガン)・各種イオン源
基板・ターゲット材料等
各種基板
ターゲット材料
高純度・高融点マテリアル
真空装置用関連治具等
表面分析装置
真空搬送システム
真空部品・コンポーネント
その他各種取扱製品
関連技術情報
PLDの概要とパスカル製PLDの特長
低圧多元スパッタリング装置
LPSP
本装置は、新しいデバイス,半導体の研究に開発された数々の特長を持つ、多層膜スパッタリング装置です。
特長
ダウンロード
特長
最大 5個の低圧マグネトロンスパッタ源を装備し、最大 5種の成膜が出来る。
基板交換室により、スパッタ室は常時高真空を保てる。
液体窒素温源から最高摂氏400度まで基板温度制御ができる。
外部パソコン(オプション)から自動制御が可能。
お問い合わせ
カタログ等資料請求フォーム
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採用等に関するお問い合わせ
その他弊社へのお問い合わせ
新製品情報
2021年3月
【真空搬送システム】
クラスターシステム
2020年2月
【真空部品】
アジレント社製 新型TMP TwisTorr 305 FS
2017年3月
【真空薄膜形成装置】
レーザーアシスト基板加熱機構
その他の新製品情報 >>
イベント情報
2022年9月20日〜23日
【併設展示】
応用物理学会秋季学術講演会
(於:東北大学 川内キャンパス)
その他のイベント情報 >>
トピックス
2021年5月1日
関東営業所
(埼玉県新座市)を移転しました。
2018年12月17日
茨城事業所
(茨城県那珂市)を移転しました。
2013年10月31日
文部科学省による「革新的イノベーション創出プログラム(COI STREAM)」拠点に東京大学等と共に採択されました。
2011年4月15日
原子散乱表面分析装置
が、りそな中小企業振興財団・日刊工業新聞共催第23回「中小企業優秀新技術・新製品賞」一般部門
“優良賞”
を受賞しました。
その他のトピックス >>