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低圧多元スパッタリング装置

LPSP

低圧多元スパッタリング装置

本装置は、新しいデバイス,半導体の研究に開発された数々の特長を持つ、多層膜スパッタリング装置です。

特長

  • 最大 5個の低圧マグネトロンスパッタ源を装備し、最大 5種の成膜が出来る。
  • 基板交換室により、スパッタ室は常時高真空を保てる。
  • 液体窒素温源から最高摂氏400度まで基板温度制御ができる。
  • 外部パソコン(オプション)から自動制御が可能。
低圧多元スパッタリング装置低圧多元スパッタリング装置

新製品情報

2021年3月
【真空搬送システム】
クラスターシステム
2020年2月
【真空部品】
アジレント社製 新型TMP TwisTorr 305 FS
2017年3月
【真空薄膜形成装置】
レーザーアシスト基板加熱機構
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イベント情報

2022年3月22日〜26日
【併設展示】
応用物理学会春季学術講演会(於:青山学院大学 相模原キャンパス)
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トピックス

2021年5月1日
関東営業所(埼玉県新座市)を移転しました。
2018年12月17日
茨城事業所(茨城県那珂市)を移転しました。
2013年10月31日
文部科学省による「革新的イノベーション創出プログラム(COI STREAM)」拠点に東京大学等と共に採択されました。
2011年4月15日
原子散乱表面分析装置 が、りそな中小企業振興財団・日刊工業新聞共催第23回「中小企業優秀新技術・新製品賞」一般部門“優良賞”を受賞しました。
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