活性原子 / ラジカルビーム源
PAR-114-20-AS
活性原子 / ラジカルビーム源は水素,窒素,酸素などのガスを導入口とRF放電によりラジカルを形成する分解室 及び 基板に照射する噴出口から形成されています。
活性原子 / ラジカルビーム源は水素,窒素,酸素などのガスを導入口とRF放電によりラジカルを形成する分解室 及び 基板に照射する噴出口から形成されています。
ガス導入 | バリアブルリークバルブ ICF70 フランジ |
導入パイプ | 1/4″SUSパイプ |
RF分解室 | PBN製 |
アパーチャ | 標準φ0.2 × n 数 |
RF放電方式 | 13.56MHz RFコイル放電 |
冷却 | 水冷 |
取付フランジ | ICF114 |
シャッター | 回転導入型ニューマチック |
サイズ | 取付フランジ面一セルトップ:250mm |
プラズマ室サイズ | φ20 × 150mm |
プラズマモニタ | 光検出器 |
RFパワー | 最大 500W:オートチューナー付 |
冷却水 | 2〜3kg/cm2 5L/min 以上 |
電 力 | 1φ 200VAC |