活性原子 / ラジカルビーム源
PAR-114-20-AS

活性原子 / ラジカルビーム源は水素,窒素,酸素などのガスを導入口とRF放電によりラジカルを形成する分解室 及び 基板に照射する噴出口から形成されています。

活性原子 / ラジカルビーム源は水素,窒素,酸素などのガスを導入口とRF放電によりラジカルを形成する分解室 及び 基板に照射する噴出口から形成されています。
| ガス導入 | バリアブルリークバルブ ICF70 フランジ | 
| 導入パイプ | 1/4″SUSパイプ | 
| RF分解室 | PBN製 | 
| アパーチャ | 標準φ0.2 × n 数 | 
| RF放電方式 | 13.56MHz RFコイル放電 | 
| 冷却 | 水冷 | 
| 取付フランジ | ICF114 | 
| シャッター | 回転導入型ニューマチック | 
| サイズ | 取付フランジ面一セルトップ:250mm | 
| プラズマ室サイズ | φ20 × 150mm | 
| プラズマモニタ | 光検出器 | 
| RFパワー | 最大 500W:オートチューナー付 | 
| 冷却水 | 2〜3kg/cm2 5L/min 以上 | 
| 電 力 | 1φ 200VAC |