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活性原子 / ラジカルビーム源

PAR-114-20-AS

活性原子 / ラジカルビーム源

活性原子 / ラジカルビーム源は水素,窒素,酸素などのガスを導入口とRF放電によりラジカルを形成する分解室 及び 基板に照射する噴出口から形成されています。

用途

  • 酸化膜の形成(酸素原子)
  • 窒化膜の形成(窒素原子)
  • クリーニング(水素原子)
  • 半導体エッチング
  • ガスソース MBE

特長

  • 超高真空対応
  • PBN 放電管(Al2O3 の特注可)
  • 高い酸化、及び窒化能を有する
  • 安全かつ丈夫な設計
  • 低いダメージプロセスの実現

主な仕様

ガス導入 バリアブルリークバルブ ICF70 フランジ
導入パイプ 1/4″SUSパイプ
RF分解室 PBN製
アパーチャ 標準φ0.2 × n 数
RF放電方式 13.56MHz RFコイル放電
冷却 水冷
取付フランジ ICF114
シャッター 回転導入型ニューマチック
サイズ 取付フランジ面一セルトップ:250mm
プラズマ室サイズ φ20 × 150mm
プラズマモニタ 光検出器
RFパワー 最大 500W:オートチューナー付

ユーティリティー

冷却水 2〜3kg/cm2 5L/min 以上
電 力 1φ 200VAC

新製品情報

2021年3月
【真空搬送システム】
クラスターシステム
2020年2月
【真空部品】
アジレント社製 新型TMP TwisTorr 305 FS
2017年3月
【真空薄膜形成装置】
レーザーアシスト基板加熱機構
その他の新製品情報 >>

イベント情報

2022年9月20日〜23日
【併設展示】
応用物理学会秋季学術講演会(於:東北大学 川内キャンパス)
その他のイベント情報 >>

トピックス

2021年5月1日
関東営業所(埼玉県新座市)を移転しました。
2018年12月17日
茨城事業所(茨城県那珂市)を移転しました。
2013年10月31日
文部科学省による「革新的イノベーション創出プログラム(COI STREAM)」拠点に東京大学等と共に採択されました。
2011年4月15日
原子散乱表面分析装置 が、りそな中小企業振興財団・日刊工業新聞共催第23回「中小企業優秀新技術・新製品賞」一般部門“優良賞”を受賞しました。
その他のトピックス >>
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