ここからサイトの主なメニューです

活性原子 / ラジカルビーム源

PAR-114-20-AS

活性原子 / ラジカルビーム源

活性原子 / ラジカルビーム源は水素,窒素,酸素などのガスを導入口とRF放電によりラジカルを形成する分解室 及び 基板に照射する噴出口から形成されています。

カタログ・パンフレット

コンパクトレーザーMBE装置

PASCAL PLD / レーザーMBE装置

コンパクトレーザーMBE装置カタログ

モバイルコンビレーザーMBE装置カタログ

PLD / レーザーMBE装置 設置要領書

RHEED

PASCAL オプションユニット

RHEEDパンフレット

上記以外のカタログ・パンフレットおよび技術資料

上記以外のカタログ・パンフレットおよび技術資料に関するお問い合わせは『カタログ等資料請求フォーム』およびお電話 にて受け付けております。

新製品情報

2020年2月
【真空部品】
アジレント社製 新型TMP TwisTorr 305 FS
2017年3月
【真空薄膜形成装置】
レーザーアシスト基板加熱機構
2010年9月
【表面分析装置】
飛行時間型原子散乱表面分析装置 TOFLAS-3000
その他の新製品情報 >>

イベント情報

その他のイベント情報 >>

トピックス

2021年5月1日
関東営業所(埼玉県新座市)を移転しました。
2018年12月17日
茨城事業所(茨城県那珂市)を移転しました。
2013年10月31日
文部科学省による「革新的イノベーション創出プログラム(COI STREAM)」拠点に東京大学等と共に採択されました。
2011年4月15日
原子散乱表面分析装置 が、りそな中小企業振興財団・日刊工業新聞共催第23回「中小企業優秀新技術・新製品賞」一般部門“優良賞”を受賞しました。
その他のトピックス >>
  • ページの先頭に戻る