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製品紹介
真空薄膜形成装置 / 成膜装置
PLD / レーザーMBE装置
コンパクトレーザーMBE装置
モバイルコンビレーザーMBE装置
スタンダードレーザーMBE装置
有機デバイス用赤外線レーザー蒸着装置
スパッタ装置
低圧多元スパッタリング装置
コンビナトリアル多層膜スパッタ装置
電子ビーム蒸着装置
オプションユニット
RHEEDユニット
ターゲット自公転ユニット
赤外線ランプ基板加熱ユニット
半導体レーザー基板加熱ユニット
レーザーアシスト基板加熱機構
コンビナトリアルマスクユニット
ロードロック室ユニット
PLD自動制御システム
高純度オゾン発生装置
活性原子 / ラジカルビーム源
分子線セル(クヌーセンセル)
マグネトロンスパッタガン
電子銃(EBガン)・各種イオン源
基板・ターゲット材料等
各種基板
ターゲット材料
高純度・高融点マテリアル
真空装置用関連治具等
表面分析装置
真空搬送システム
真空部品・コンポーネント
その他各種取扱製品
関連技術情報
PLDの概要とパスカル製PLDの特長
高純度オゾン発生装置
OHSR-1000PA
オゾナイザーで発生したオゾンを小型冷凍機によって液化・貯蔵し、貯蔵室の温度を制御する事によって、液体オゾンを気化し高純度オゾンを発生供給する装置です。
特長
ダウンロード
特長
液化オゾンを気化する方式のため、高純度オゾン(90%以上)を発生させる事ができます。
(真空中のサンプルに強い酸化力を与えます)
クライオスタット部は、小型・軽量化によって反応室に直接接続可能です。
供給されたオゾンフラックスは、貯蔵室の温度制御によって高い安定性(変動率:2%以下)と可変性が得ることができます。
本装置は、オゾンの液化・貯蔵・気化及び排気が自動的に行うことができ、その時間設定は任意に選択可能です。
水・エアー・電気・温度等のインターロック以外にも、万一の場合を考えた安全対策が幾重にも施されております。
お問い合わせ
カタログ等資料請求フォーム
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採用等に関するお問い合わせ
その他弊社へのお問い合わせ
新製品情報
2021年3月
【真空搬送システム】
クラスターシステム
2020年2月
【真空部品】
アジレント社製 新型TMP TwisTorr 305 FS
2017年3月
【真空薄膜形成装置】
レーザーアシスト基板加熱機構
その他の新製品情報 >>
イベント情報
2022年9月20日〜23日
【併設展示】
応用物理学会秋季学術講演会
(於:東北大学 川内キャンパス)
その他のイベント情報 >>
トピックス
2021年5月1日
関東営業所
(埼玉県新座市)を移転しました。
2018年12月17日
茨城事業所
(茨城県那珂市)を移転しました。
2013年10月31日
文部科学省による「革新的イノベーション創出プログラム(COI STREAM)」拠点に東京大学等と共に採択されました。
2011年4月15日
原子散乱表面分析装置
が、りそな中小企業振興財団・日刊工業新聞共催第23回「中小企業優秀新技術・新製品賞」一般部門
“優良賞”
を受賞しました。
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