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CMP用洗浄剤 スラリークリーン

CMP用洗浄剤 スラリークリーン

スラリークリーンはCMP装置周辺に飛散 ・ 固着したスラリーによる超微粒子皮膜を簡単に除去します。

- - スラリークリーンはお客様の次の様な問題を解消します。- -

  • SMPスラリーがCMP装置及びその周辺を汚染している。
  • 洗浄作業時発生するシリ力等微粒子の作業者への健康障害が間題となっている。
  • 固着したスラリーの洗浄に多くのコスト(労力,時間)が掛かっている。
  • 洗浄作業時発生するシリカ等微粒子が精密機器への二次汚染を起こしている。

特長

優れた洗浄性

  • SMPスラリー固着物を簡単に除去します。

簡単な作業性

  • 被洗体に塗布の後、スポンジ等でこするだけで除去できます。

腐食性を解消

  • 強酸 ・ 強アルカリを使用していないので金属や合成樹脂を侵しません。

高い安全性

  • 洗浄作業時発塵しません。
  • ウェハー汚染に影響のあるナトリウム等のアルカリ金属成分を含みません。
  • 毒物,劇物,危険物に該当しません。
  • 人体には家庭用洗剤レベルの優しさです。

性状

主成分 界面活性剤 / 研磨材
形状 乳液状
PH 7.1
(詳細は MSDS 及び 納入仕様書をご参照下さい。)

洗浄例

洗浄前
洗浄後
洗浄前
→
洗浄前

新製品情報

2015年7月
【その他各種取扱製品】
テラヘルツ発生・検出器 (光伝導アンテナ)
2013年10月
【真空部品】
アジレント社製 新型スクロールポンプ IDP-15
2013年7月
【真空部品】
アジレント社製 新型TMP TwisTorr 304 FS
2010年9月
【表面分析装置】
飛行時間型原子散乱表面分析装置 TOFLAS-3000
2010年3月
【極低温冷凍機システム】
アクセスドア仕様 光学&電気測定用冷凍機システム 〔小型 4K GM CRYO COOLER〕
その他の新製品情報 >>

イベント情報

2018年9月18日〜21日
【併設展示】
第79回応用物理学会秋季学術講演会(於:名古屋国際会議場)
2018年10月3日〜5日
【併設展示】
10th International Workshop on Combinatorial Materials Science and Technology (COMBI2018)(於:メルパルク横浜)
その他のイベント情報 >>

トピックス

2013年10月31日
文部科学省による「革新的イノベーション創出プログラム(COI STREAM)」拠点に東京大学等と共に採択されました。
2013年9月27日
原子散乱表面分析装置 に、関連技術情報3件を掲載しました。
2012年11月1日
茨城事業所(茨城県那珂市)を開設しました。
2011年4月15日
原子散乱表面分析装置 が、りそな中小企業振興財団・日刊工業新聞共催第23回「中小企業優秀新技術・新製品賞」一般部門“優良賞”を受賞しました。
その他のトピックス >>
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