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CMP用洗浄剤 スラリークリーン

CMP用洗浄剤 スラリークリーン

スラリークリーンはCMP装置周辺に飛散 ・ 固着したスラリーによる超微粒子皮膜を簡単に除去します。

- - スラリークリーンはお客様の次の様な問題を解消します。- -

  • SMPスラリーがCMP装置及びその周辺を汚染している。
  • 洗浄作業時発生するシリ力等微粒子の作業者への健康障害が間題となっている。
  • 固着したスラリーの洗浄に多くのコスト(労力,時間)が掛かっている。
  • 洗浄作業時発生するシリカ等微粒子が精密機器への二次汚染を起こしている。

カタログ・パンフレット

上記以外のカタログ・パンフレットおよび技術資料

上記以外のカタログ・パンフレットおよび技術資料に関するお問い合わせは『カタログ等資料請求フォーム』およびお電話 にて受け付けております。

新製品情報

2015年7月
【その他各種取扱製品】
テラヘルツ発生・検出器 (光伝導アンテナ)
2013年10月
【真空部品】
アジレント社製 新型スクロールポンプ IDP-15
2013年7月
【真空部品】
アジレント社製 新型TMP TwisTorr 304 FS
2010年9月
【表面分析装置】
飛行時間型原子散乱表面分析装置 TOFLAS-3000
2010年3月
【極低温冷凍機システム】
アクセスドア仕様 光学&電気測定用冷凍機システム 〔小型 4K GM CRYO COOLER〕
その他の新製品情報 >>

イベント情報

2019年9月18日〜21日
【併設展示】
第80回応用物理学会秋季学術講演会(於:北海道大学 札幌キャンパス)
その他のイベント情報 >>

トピックス

2018年12月17日
茨城事業所(茨城県那珂市)を移転しました。
2013年10月31日
文部科学省による「革新的イノベーション創出プログラム(COI STREAM)」拠点に東京大学等と共に採択されました。
2013年9月27日
原子散乱表面分析装置 に、関連技術情報3件を掲載しました。
2011年4月15日
原子散乱表面分析装置 が、りそな中小企業振興財団・日刊工業新聞共催第23回「中小企業優秀新技術・新製品賞」一般部門“優良賞”を受賞しました。
その他のトピックス >>
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