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真空薄膜形成装置 / 成膜装置
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関連技術情報
二次イオン質量分析法
二次イオン質量分析法（Secondary Ion Mass Spectrometry : SIMS）は、イオン（一次イオン）ビームを試料表面に照射し、スパッタリング現象により発生するイオン（二次イオン）を質量分離することで、表面構成元素を高感度かつ高分解能に測定することができます。
株式会社パスカルは、電気的に中性な原子ビームを用いた原子散乱表面分析装置の応用機能として、簡易SIMS測定を可能としました。
原子散乱表面分析装置の応用機能 : 簡易SIMS
従来の二次イオン質量分析法（SIMS）では、イオン（一次イオン）ビームを試料表面に照射していたため、絶縁体表面に関しては入射イオンによる帯電（チャージアップ）効果のため、分析が困難でした。
電気的に中性な原子ビームを用いた飛行時間型-原子散乱表面分析装置は、応用機能として簡易SIMS測定を行うことが可能であり、これにより絶縁体表面の高感度かつ高分解能な元素分析を実現しました。
新製品情報
- 2021年3月
- 【真空搬送システム】
クラスターシステム - 2020年2月
- 【真空部品】
アジレント社製 新型TMP TwisTorr 305 FS - 2017年3月
- 【真空薄膜形成装置】
レーザーアシスト基板加熱機構
イベント情報
- 2022年9月20日〜23日
- 【併設展示】
応用物理学会秋季学術講演会（於：東北大学 川内キャンパス）
トピックス
- 2021年5月1日
- 関東営業所（埼玉県新座市）を移転しました。
- 2018年12月17日
- 茨城事業所（茨城県那珂市）を移転しました。
- 2013年10月31日
- 文部科学省による「革新的イノベーション創出プログラム（COI STREAM）」拠点に東京大学等と共に採択されました。
- 2011年4月15日
- 原子散乱表面分析装置 が、りそな中小企業振興財団・日刊工業新聞共催第23回「中小企業優秀新技術・新製品賞」一般部門“優良賞”を受賞しました。