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製品紹介

真空薄膜形成装置 / 成膜装置

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イオンポンプ

VacIon Plusシリーズ / Miniature Pump / Small Vaclon Pump

イオンポンプ

1950年代、バリアンがイオンポンプを開発して以来、イオンポンプに対する主要な技術革新のすべてを行ってきたアジレント(バリアン)のイオンポンプです。

受け継がれて来た高品質・高信頼性のイオンポンプは世界各国で高い評価を得ており、現在も、これからも、アジレント(バリアン)はワールドワイドのトップシェアブランドです。

特長

  • 0.4〜500L/sの幅広い排気速度レンジの製品ラインナップから、システムに最適な一台をお選びいただきます。
  • ダイオード,ノーブルダイオード,スターセルの3種類の中からシステムの排気ガス種に応じて選択し、それぞれ最高の排気性能を引き出すことができます。
  • TSP(チタンサプリメーションポンプ)搭載が可能で、極高真空を必要とする表面分析等のアプリケーションにも対応します。(150L/s〜500L/sポンプのみ)

製品一覧

Miniature Pump / Small Pump

Miniture Pump 項目 Miniature 2L/s 10L/s
Diode Diode Diode
排気速度 (飽和ポンプ圧力 1x10-4Pa, N2) 0.2L/s 2L/s 10L/s
最大起動圧力 1x10-2Pa 1x10-2Pa <1x10-2Pa

VacIon Plus 20

VacIon Plus 20 項目 StarCell Noble Diode Diode
排気速度 (飽和ポンプ圧力 1x10-4Pa, N2) 20L/s 22L/s 27L/s
最大起動圧力 <1Pa <0.1Pa <0.1Pa

VacIon Plus 40

VacIon Plus 40 項目 StarCell Noble Diode Diode
排気速度 (飽和ポンプ圧力 1x10-4Pa, N2) 34L/s 36L/s 40L/s
最大起動圧力 <1Pa <0.1Pa <0.1Pa

VacIon Plus 55

VacIon Plus 55 項目 StarCell Noble Diode Diode
排気速度 (飽和ポンプ圧力 1x10-4Pa, N2) 50L/s 53L/s 55L/s
最大起動圧力 <1Pa <0.1Pa <0.1Pa

VacIon Plus 75

VacIon Plus 75 項目 StarCell Noble Diode Diode
排気速度 (飽和ポンプ圧力 1x10-4Pa, N2) 65L/s 68L/s 75L/s
最大起動圧力 <1Pa <0.1Pa <0.1Pa

VacIon Plus 150

VacIon Plus 150 項目 StarCell Noble Diode Diode
排気速度 (飽和ポンプ圧力 1x10-4Pa, N2) 125L/s 135L/s 150L/s
最大起動圧力 <1Pa <0.1Pa <0.1Pa

VacIon Plus 200

VacIon Plus 300 項目 StarCell Noble Diode Diode
排気速度 (飽和ポンプ圧力 1x10-4Pa, N2) 180L/s 185L/s 200L/s
推奨起動圧力 <1x10-2Pa <1x10-3Pa <1x10-3Pa

VacIon Plus 300

VacIon Plus 300 項目 StarCell Noble Diode Diode
排気速度 (飽和ポンプ圧力 1x10-4Pa, N2) 240L/s 260L/s 300L/s
最大起動圧力 <1Pa <0.1Pa <0.1Pa

VacIon Plus 500

VacIon Plus 500 項目 StarCell Noble Diode Diode
排気速度 (飽和ポンプ圧力 1x10-4Pa, N2) 410L/s 440L/s 500L/s
最大起動圧力 <1Pa <0.1Pa <0.1Pa

新製品情報

2021年3月
【真空搬送システム】
クラスターシステム
2020年2月
【真空部品】
アジレント社製 新型TMP TwisTorr 305 FS
2017年3月
【真空薄膜形成装置】
レーザーアシスト基板加熱機構
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イベント情報

2022年9月20日〜23日
【併設展示】
応用物理学会秋季学術講演会(於:東北大学 川内キャンパス)
その他のイベント情報 >>

トピックス

2021年5月1日
関東営業所(埼玉県新座市)を移転しました。
2018年12月17日
茨城事業所(茨城県那珂市)を移転しました。
2013年10月31日
文部科学省による「革新的イノベーション創出プログラム(COI STREAM)」拠点に東京大学等と共に採択されました。
2011年4月15日
原子散乱表面分析装置 が、りそな中小企業振興財団・日刊工業新聞共催第23回「中小企業優秀新技術・新製品賞」一般部門“優良賞”を受賞しました。
その他のトピックス >>
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