スタンダードレーザーMBE装置
ST-LMBE
球型チャンバーで小型化と高い操作性を実現
本装置は、外部より導入されるアブレーション用レーザーを真空中のターゲットに照射し、基板にターゲット材を堆積させることが可能な超高真空装置です。
本装置は主に、成膜室、成膜室排気系で構成されますが、基板導入室を始めとする多様なオプションが選択できます。
この装置の特長として、赤外ランプ加熱を装備しているので、基板を800℃以上まで加熱することが可能であり、なおかつ酸素雰囲気に強い構造を有します。
また、従来の装置よりコンパクトな設計になっており操作性が向上しております。